બહિર્મુખ જન્મદર

એક બહિર્મુખ જન્મજાત એક રચના છે જે ચામડીના સ્તરથી ઉપર છે, જે કોશિકાઓનું ક્લસ્ટર છે. તે અલ્ટ્રાવાયોલેટ ઇરેડિયેશનના પ્રભાવ હેઠળ લાંબા સમય પછી થાય છે, જો શરીરમાં આંતરસ્ત્રાવીય બદલાવો આવે છે અથવા સ્વાદુપિંડના કાર્યમાં વિક્ષેપ આવે છે.

બહિર્મુખ જન્મજાત માટે જોખમી શું છે?

શરીર પર ઉત્પ્રેરક જન્મેલા સૌમ્ય નિયોપ્લાઝમ છે. પરંતુ તેમને સૌથી વધુ ખતરનાક ગણવામાં આવે છે, કારણ કે તેમને જીવલેણ ગાંઠ ( મેલાનોમા ) માં પુનઃજનિત કરી શકાય છે અને કેન્સરનું દેખાવ ઉશ્કેરે છે. રિબર્થ સીધા સૂર્યપ્રકાશનું કારણ બની શકે છે. આ હકીકત એ છે કે સામાન્ય રીતે પાછળ, પગ અથવા ચહેરા પર બહિર્મુખ છછુંદર સપાટ નાના nevuses કરતાં મોટી છે, કારણ કે તે વધુ હાનિકારક યુવી કિરણો આકર્ષે છે. પણ, મેલાનોમા વિકાસ કરી શકે છે જો નેવુસ કપડાં, મધપૂડો, કપડા, દાગીના, રેઝર અથવા અન્ય કોઈપણ વસ્તુ સાથે ઘાયલ છે.

ઓન્કોલોજિસ્ટની સલાહ લો ત્યારે ખાતરી કરો કે ક્યારે:

• નેવુસ ઇંચ અથવા તે ખૂબ જ બખોલવામાં આવે છે;
• બહિર્મુખ જન્મદ્રષ્ટિ કદમાં વધારો કરવાનું શરૂ કર્યું;
• એક પ્રવાહી રચનાની અંદર દેખાય છે;
• આ છછુંદર ના રંગ બદલાઈ ગયો છે;
• નેવુસ રક્તસ્ત્રાવ અને સોજો છે;
• શિક્ષણની આગળ સીલ છે.

બહિર્મુખ મોલ્સ દૂર

ભુરો અથવા લાલ બહિર્મુખની નિશાની ચોક્કસ ભૌતિક અથવા મનોવૈજ્ઞાનિક અસ્વસ્થતાનું કારણ બને છે, ખાસ કરીને જો તે ચહેરા પર છે તેથી, આવા તિરસ્કારનું નિરાકરણ માત્ર તબીબી કારણોસર જ કરવામાં આવે છે. ઘરે આ પ્રક્રિયા સખત પ્રતિબંધિત છે.

નિષ્ણાત સાથેની પ્રાથમિક પરીક્ષા પછી બતાવ્યું છે કે બહિર્મુખ છીદ્રો દૂર કરવું, તમે કઈ પદ્ધતિ પસંદ કરી શકો છો:

1. સ્કૅલ્પલનો ઉપયોગ કરવો - સામાન્ય રીતે આ પદ્ધતિનો ઉપયોગ કરવામાં આવે છે જો નિર્માણ વ્યાપક અને ઊંડા હોય છે. સર્જિકલ ઉપદ્રવ પછી, માત્ર દૃશ્યમાન સફેદ ડાઘ રહે છે.
2. લેસર પદ્ધતિની સહાયથી - લેસર બીમના નાના વ્યાસ અને અસરની એડજસ્ટેબલ ઊંડાઈને કારણે, આસપાસના પેશીઓને ઇજા કર્યા વિના, તમામ પ્રક્રિયાઓ શાબ્દિક રીતે એક પ્રક્રિયામાં દૂર કરી શકાય છે. પ્રક્રિયા દરમિયાન રક્તસ્ત્રાવ ગેરહાજર છે, અને ત્વચા 5-7 દિવસની અંદર રૂઝ આવવા.
3. ઉચ્ચ-આવર્તન વિદ્યુત પ્રવાહ - ચામડીની સપાટી પરથી છછુંદર બાળવાથી વર્તમાન આવેગ દ્વારા ખૂબ જ ઝડપથી કરવામાં આવે છે. આ પદ્ધતિ નિરાશાજનક છે, પરંતુ ચામડી સ્વાભાવિક દાંડી રહી શકે છે.
4. લિક્વિડ નાઇટ્રોજન ફ્રીઝિંગ મોલ્સને દૂર કરવા માટેની એક ઝડપી અને અસરકારક પ્રક્રિયાનું કારણ છે, પરંતુ ત્યારથી પ્રક્રિયાની પ્રક્રિયા દરમિયાન તંદુરસ્ત પેશીઓને નુકસાન પહોંચાડી શકાય છે, જ્યારે નેવુસની બાજુમાં રચના કરવામાં આવે છે ત્યારે તેનો ઉપયોગ કરવામાં આવે છે.